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Mitsubishi Electric va livrer des échantillons de matrices nues SiC-MOSFET de 5e génération
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TOKYO, 4 juin 2026 – Mitsubishi Electric Corporation (TOKYO : 6503) a annoncé aujourd’hui qu’elle commencera à expédier progressivement, fin juin, des échantillons de deux types de nouveaux transistors à effet de champ à structure métal-oxyde-semi-conducteur en carbure de silicium de 5e génération (SiC-MOSFET) sous forme de matrices nues. Les nouveaux SiC-MOSFET sont conçus pour être utilisés dans les onduleurs pour moteurs à entraînement et essieux électriques (eAxles)1 de véhicules électriques (VE), véhicules hybrides rechargeables (PHEV) et autres véhicules électrifiés (xEV). Ils intègrent la structure à tranchée propriétaire de Mitsubishi Electric2 et atteignent une faible résistance à l’état passant4 environ 25 % inférieure5 à celle des produits existants, à la pointe de l’industrie3.
Les produits seront présentés au PCIM Expo & Conference 2026 (du 9 au 11 juin, Nuremberg, Allemagne) ainsi que lors d’expositions au Japon, en Chine et dans d’autres pays.
Les matrices nues SiC-MOSFET de 5e génération de Mitsubishi Electric contribueront aux performances et à la miniaturisation des onduleurs et des essieux électriques (eAxles) de xEV, ce qui étendra l’autonomie et améliorera l’efficacité énergétique des xEV. De plus, la technologie de processus de fabrication propriétaire de l’entreprise limite la dégradation des performances ainsi que les fluctuations des pertes de puissance et de la résistance à l’état passant, garantissant une qualité stable même après une utilisation prolongée et contribuant à la durabilité et aux performances des onduleurs xEV et des eAxles.
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Unité d’entraînement intégrant le moteur, l’onduleur et la boîte de vitesses, qui constitue le cœur d’un véhicule électrique.
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Structure dans laquelle des rainures (tranchées) sont gravées sur la surface de la plaque et des électrodes de grille sont intégrées.
- 3
Recherche menée par Mitsubishi Electric au 29 mai 2026.
- 4
La résistance à l’état passant correspond à la valeur de la résistance générée entre le drain et la source lorsqu’un semi-conducteur de puissance, tel qu’un MOSFET, est à l’état passant.
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Lors de la comparaison de la résistance à l’état passant du nouveau produit et du produit conventionnel (SiC-MOSFET à tranchée de 4e génération) avec la même tension nominale et une tension de seuil ajustée.
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