Communiqués de presse
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POUR DIFFUSION IMMÉDIATE n° 3298
TOKYO, le 2 septembre 2019 - Mitsubishi Electric Corporation (TOKYO : 6503) a annoncé aujourd'hui, en collaboration avec le Research Center for Ubiquitous MEMS and Micro Engineering et l'Institut national des sciences et technologies industrielles avancées (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, AIST), avoir mis au point un transistor à haute mobilité d'électrons au nitrure de gallium (GaN HEMT) avec une structure multicellulaire (plusieurs cellules de transistor disposées en parallèle), liée directement à un substrat de diamant monocristallin dissipant la chaleur et ayant une conductivité thermique élevée. La liaison directe d'un transistor multicellulaire GaN HEMT à un substrat de diamant monocristallin est une première mondiale.* Le nouveau transistor GaN-on-Diamond HEMT permettra d'améliorer le rendement en puissance ajoutée des amplificateurs haute puissance dans les stations de base de télécommunications mobiles et les systèmes de communication par satellite, aidant ainsi à réduire la consommation d'électricité. Mitsubishi Electric continuera de perfectionner le transistor GaN-on-Diamond HEMT avant sa commercialisation prévue pour 2025.
Ce résultat a été présenté pour la première fois à l'International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) qui se tient actuellement à l'Université de Nagoya, au Japon, du 2 au 5 septembre.
Nouveau transistor GaN-on-Diamond HEMT Vue du dessus et de sa structure cellulaire
Vue en coupe de nouveau transistor GaN-on-Diamond HEMT
Mitsubishi Electric s'est chargé de la conception, de la fabrication, de l'évaluation et de l'analyse du transistor GaN-on-Diamond HEMT et l'AIST a développé la technologie de liaison directe. Une partie de cette réussite repose sur les résultats d'un projet commandé par la New Energy and Industrial Technology Development Organization (NEDO, Organisation pour le développement des énergies nouvelles et des technologies industrielles).
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